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成功逆向ASML欧义中国首台EUV光刻机原型机组装

欧亿2026-03-03 16:37:56【探索】4人已围观

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据外媒报道，成功中国一家秘密实验室已经悄然组装出第一台EUV极紫外光刻系统的中国装原型机，是首台欧义通过逆向工程ASML现有的光刻机产品而来的，正处于秘密测试阶段，刻机计划2028年试产原型芯片。原型

消息称，首台这一EUV光刻机原型是刻机欧义2025年初在深圳一处安保严密的设施内组装完成的，几乎覆盖了整个厂房。原型

这台光刻机没有采用清华大学研发的机组基于粒子加速器的稳态微聚束(SSMB)技术，也没有使用哈尔滨工业大学开发的成功放电等离子体(DPP)技术，而是中国装和ASML Twinscan NXE系列光刻机相同的激光等离子体(LPP)技术，可产生波长为13.5纳米的首台极紫外光。

报道指出，中国版EUV光刻机的体积显著大于ASML同类产品，但已经具备极紫外光的生成能力，只是尚未能制造出可用芯片。中国EUV光刻机的研发团队由前ASML工程师和应届大学毕业生组成，不仅聘请了ASML中国分公司的前员工，还吸纳了ASML在美国、欧洲、中国台湾的前雇员。

关键瓶颈在于，中国仍无法复刻出ASML的高精度光学系统，甚至无法将极紫外光精准投射到晶圆上，更谈不上完成光刻成像。

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